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新磊半导体申请分子束外延工艺中的脱膜方法，显著减少外延片表面缺陷:脱膜
金融界2025年5月6日消息，国家知识信息显示，新磊半导体科技（苏州）股份有限公司申请一项名为“一种分子束外延工艺中的脱膜方法”的，公开号CN119913614A，申请日期为2025年3月脱膜。摘
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金融界2025年5月6日消息，国家知识信息显示，新磊半导体科技（苏州）股份有限公司申请一项名为“一种分子束外延工艺中的脱膜方法”的，公开号CN119913614A，申请日期为2025年3月脱膜。摘